Емитер 5/2003.
Нарачајте го овој број или најавете се за да ја прочитате целата статија.
Литографија (грчки: líthos - камен и graphía – пишување) е процес за печатење развиен во 1878 година од германски инспектор за мапи (!), извесен господин Aloys Senefelder. Литографијата се служи со рамна, лесна и планографска површина каде што областа за печатење не е повисока од онаа област што не се печати, односно се користи (ре)акцијата помеѓу маст и вода. Senefelder открил дека доколку на варовник се исцрта цртеж со мрсна креда, линиите ќе го привлечат и задржат мрсното мастило кога каменот е намокрен, додека пак, останатите површини ќе останат без мастило. Цртежот понатака можел да биде репродуциран на соодветна хартија положена на каменот. И сето тоа во 19-тиот век...
...а денеска со истото име се нарекува процес со кој што може да се "исцртаат” транзистори со 15nm (нанометарски) gate, спремни за THz (терахерцен) такт!
Текстот ќе се обиде да ги изложи основните принципи и трендови во изработката на интегрирани кола, со посебен акцент на изработка на микропроцесорите – затоа што тие се сметаат за најкомплексната работа што воопшто е произведена на планетата Земја.
Значи, како што сега стојат работите, процесот за изработка на чиповите се нарекува литографија. Во суштина, самиот процес е сличен на фотографската постапка. Наместо на фотографски филм, фокусираната светлина паѓа врз силициумски wafer-и и во нив ги "гравира” примероците на електричните кола, односно транзисторите и интерконекциските врски.
Трендот во изработка на интегрираните кола е еден и единствен: зголемување на густината на интегрираните транзистори! Познатиот Moore-ов закон вели дека бројот на транзистори во микропроцесорите ќе се удвојува на секои 18 месеци.
Хронологија на литографијата според Intel
Првата идеја за остварување на оваа цел е да се намали брановата должина на емитирана светлина, со што би се постигнало попрецизно осветлување (односно отсликување) на помали маски, па така, со тек на времето, од “обична” светлина, поради нејзината помала бранова должина, се преминало на користење UV (ултравиолетова) светлина. Во литографската терминологија ова е познато како премин од оптичка, на UV литографија, па потоа на DUV (Deep UV), а веќе се подготвува и EUV (Extreme UV).
Хронологија на литографијата според Intel
Ова е само дел од статијата која во целост е објавена во Емитер 5/2003. Нарачајте го овој број за да ја прочитате целата статија, а ако веќе го имате купено електронското издание најавете се за да го прочитате.